文章摘要:以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体，三嵌段共聚物（F127）为模板剂，利用酸催化的形式通过溶胶-凝胶法制备介孔二氧化硅增透膜液。采用浸渍提拉法在硼硅玻璃基片上进行镀膜，利用马弗炉对膜层进行固化处理。采用紫外可见分光光度计、电导率仪对膜的透过性能及膜液的电学性能进行分析。结果表明：溶剂在6个月的长期挥发下会导致膜液电导率由243 μS/cm增大到266 μS/cm，相同的提拉速度会使得膜层变厚，透过率峰值出现“红移”现象，300～2500 nm的平均透光率由96.7%降为96.0%。通过对实验所得数据进行拟合可知，膜液电导率与二氧化硅浓度成简单的线性关系，与最优提拉速度成单指数函数关系，使用膜液电导率对标稀释的方法可使所镀膜层透过率得到恢复，能在不影响生产效率的前提下保证膜层产品的一致性。

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论文DOI:10.19964/j.issn.1006-4990.2021-0701

论文分类号:TQ051.893

文章来源：《光学精密工程》 网址: http://www.gxjmgc.cn/qikandaodu/2022/0125/936.html